Русский Татарча RSS Имам Юрист Фонд Реклама Типография
Информационное агентство Инфо-Ислам
Общероссийское
информационное агентство мусульман
26
Воскресенье
февраля

Ведущий разработчик технологических систем для литографии рассказал, каким будет будущее в этой области

Главная страница / Обзоры товаров и услуг / Ведущий разработчик технологических систем для литографии рассказал, каким будет будущее в этой области - 16 Января 2016

Фирма ASML, ведущий разработчик технологических систем для литографии, а следовательно проекционного оборудования шагового мультиплицирования, высказала мысли о вопросе уменьшения техпроцесса производства интегральных микросхем в обозримом будущем. Из ее слов можно понять, что сейчас основная масса чипмейкеров использует классическую иммерсионную фотолитографию при изготовлении 10-нм схем. Литографическая технология с использованием крайнего ультрафиолетового излучения уже много лет никак не появится на рынке. И на это имеются причины.

Основным фактором, который продлевает жизнь иммерсионной фотолитографии, является относительно небольшая стоимость оборудования и самого процесса в целом. К примеру, ориентировочная цена EUV-степперов варьируется от 100 до 120 миллионов долларов, что в два раза превышает ценники на "иммерсионные" системы мультиплицирования. Ради справедливости стоит отметить, что оборудование EUV является модульным, т. е. позволяет "апгрейдить" его по невысокой цене, а не покупать полностью новую установку. Однако этого явно не хватает, чтобы серьезно заинтересовать производителей чипов, которым процесс на основе иммерсионной литографии пока обходится дешевле, чем "экстремальный ультрафиолет".

Ситуация обязана измениться с приходом в широкие массы 7-нанометрового технологического процесса. Возможно скоро мы сможем покупать фотобумагу для принтера дешевле. Но сначала чипмейкеры опробуют EUV-оборудование на 10-нм. технологии. Расстояние в 10 нанометров между элементами для самых ответственных операций в литографии потребует нескольких проецирований изображения на текстолитовую основу - до четырех повторений. Следовательно, возрастают траты на обеспечение необходимого техпроцесса, что приводит к повышению цены конечных продуктов. Именно тогда производителям придется внимательнее присмотреться к EUV-литографии. Снижение цены техпроцесса будет более значимым фактором, чем высокая стоимость оборудования.

Когда дело коснется производства 7-нм схем, тогда распространенная ныне иммерсионная литография перестанет быть рентабельной. Для определенных слоев число итераций увеличится до 13-ти, если применять иммерсионные степперы. Оборудование на основе крайнего ультрафиолета будет единственным возможным вариантом, который позволит производить до тысячи кремниевых пластин в день. Естественно, путь победному шествию EUV-технологии преграждает множество препятствий, начиная от необходимости поиска новых резистов и существенного снижения дефектности фотошаблонов, заканчивая отсутствием мощных и достаточно надежных источников излучения. Но в конце концов технические и технологические трудности наверняка останутся позади, а EUV-литография взойдет на вершину рынка. И стартом ее доминирования станет переход на 7-нанометровый техпроцесс.

-->



Читайте также:

Сегодня в Казани открылся V НеФорум блогеров Хайдар Али — путь из низов
Фонд «Ярдэм» посетили участницы Международного форума-выставки «Руками женщины» В Казани прошел благотворительный концерт для людей с ДЦП
Какие бывают кредитные ловушки? Компьютерную программу научили определять лжецов по видео
Об отсутствии пользы диет «Яндекс» поглотил разработчиков знаменитого российского антивируса
6 правил счастливой семьи Предъявите книгу жалоб! Особенности ведения документа и рассмотрения заявок
Каким образом создать красивый весенний интерьер в своей квартире Лего Эльфы - один из самых красивых конструкторов от Lego
Пять простых и бюджетных решений оформления узкого балкона Строим "Теплый дом"
Авторы музыки подали против Spotify иск на $150 млн за невыплату роялти Фитокосметика: из древних времен в наши дни
Рыба с овощами Как удачно продать свой автомобиль
Понятие следа в криминалистике Индия: город Хампи - памятник Всемирного наследия Юнеско


Как необходимо решать проблему ношения Хиджаба в школах?
Всего ответов: 148


25.02 Саратовские мусульманки запустили социальный проект «Платок - это красиво»
24.02 Трамп намерен увеличить ядерный потенциал США
24.02 В Москве прошла пресс-конференция по итогам визита делегации ДУМ РФ в Ливан с благотворительной акцией
24.02 В Китае дадут $14,5 млн за информацию о терактах, женщинах в хиджабах и мужчинах с бородой
24.02 На Миланской неделе моды модель вышла в хиджабе
23.02 В Турции завершили следствие о попытке госпереворота‍
23.02 Ассоциация исламского бизнеса открывает свои представительства
23.02 Муфтий Дагестана встретился с ректором университета Билад аль-Шам
23.02 В России могут ограничить продажи компьютерных игр и детских игрушек
23.02 Впервые за 50 лет в Дании идет суд за кощунство
23.02 В Дербенте прошел молодежный антитеррористический форум
23.02 Минниханов находится в Китае с рабочей поездкой
23.02 Cтуденты встретились со спортивными послами предстоящих IV Игр исламской солидарности
22.02 Канада предоставит убежище нелегальным мигрантам, прибывающим из США
22.02 В Уфе утверждена программа подготовки специалистов с углубленным знанием истории и культуры ислама
22.02 В Саудовской Аравии заблокировали 360 тыс аккаунтов террористов в соцсетях
22.02 В Омске прошли курсы повышения квалификации мусульманских религиозных деятелей Сибири
22.02 В Саратове прошло заседание Общественной палаты в мечети
22.02 Более 200 мусульманских лидеров погибли за пропаганду ислама на Северном Кавказе
22.02 Генштаб Турции разрешил женщинам-военнослужащим носить хиджаб



Счетчик тИЦ и PR
© 2009-2017 Информационное агентство "Инфо-ислам"
Все права на материалы опубликованные на сайте принадлежат ООО "Медиа-группа "Ислам info". При использовании материалов гиперссылка обязательна. Свидетельство о регистрации СМИ: ИА № ФС 77 – 45781 от 13.07.2011г. Размещенные материалы 18+
Создание и обслуживание сайта — Студия Ариф